Quantus HP100
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INFICON Quantus HP100ガス分析装置は、セルフプラズマ発光分光法（SPOES）技術に基づいており、半導体製造中のリアルタイムのリーク検出、終点検出、プロセス監視を実現するように設計されています。Quantus HP100は、優れた感度とコンパクトなフォームファクタを備え、高価なポンプを使わずに動作圧力範囲が広いため、ほとんどの半導体ツールのプロセス監視や保護に最適です。
アルゴンの場合は1トール — 450トール、窒素の場合は1トール—120トールの動作範囲（他のガス種によって異なります）
低い検出限界 <
